本篇文章438字，讀完約1分鐘

近日，在蘋(píng)果公司發(fā)布新一代ipadair，搭載臺(tái)灣積體電路制造5納米工藝a14解決方案后，臺(tái)灣積體電路制造再次引起業(yè)界關(guān)注。 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，臺(tái)灣積體電路制造在5納米工藝中大放異彩，下一步將把要點(diǎn)迅速發(fā)展到3納米和2納米工藝。

臺(tái)灣積體電路制造使用2納米迅速進(jìn)步，或使用帶柵極的晶體管技術(shù)。

上個(gè)月，臺(tái)灣積體電路制造在技術(shù)論壇上公布了5nm、4nm、3nm工藝的新進(jìn)展，表明3nm工藝的研制正在按計(jì)劃進(jìn)行，并將繼續(xù)使用成熟的鰭形場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù)。 但是，最近，比3nm更先進(jìn)的2nm工藝也逐漸浮出水面。

產(chǎn)業(yè)鏈信息人士表示，臺(tái)灣積體電路制造目前2納米工藝進(jìn)展迅速，超出預(yù)期。 2nm采用的不是成熟的場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù)( finfet )，而是柵極周圍晶體管技術(shù)) gaa )。

在上個(gè)月的科技論壇上，臺(tái)灣積體電路制造副總裁kevinzhang也在錄制視頻中表示，新的臺(tái)灣研發(fā)中心將運(yùn)營(yíng)先進(jìn)的生產(chǎn)線，投入8000名工程師，克服2納米工藝的技術(shù)難題。